品質管理統括 (Nữ): ちょっと大石さん、至急確認してください!第3露光ベイのオンラインIMS(イオン移動度分光計)で、塩基性ケミカル汚染(AMC)、特に微量アミン類の濃度急上昇アラートが発報しました。現在、2ナノメートル試作ロットのEUV(極端紫外線)レジスト露光工程が稼働中です。化学増幅型レジストの露光後ベークまでの間に空気中のアミンがわずか数十pptでも混入すれば、表面難溶化層(T-トップ現象)が生じて線幅の致命的な欠陥を引き起こし、1ロット数億円のウェハーが全滅してしまいます!
設備主任 (Nam): 数値を確認しました。閾値の50pptを超えて85pptまで跳ね上がっています。隣接する薬液配管の継手から微小リークが発生した可能性があります。原因箇所の物理的な特定と隔離には30分ほどかかりますが、放置すれば搬送中のウェハーカセット(FOUP)の隙間から吸気され、露光待ちのウェハーまで汚染されてしまいますね。
品質管理統括 (Nữ): ええ。配管の漏れ箇所の特定はもちろん必須ですが、一刻を争います。露光装置へのウェハーの新規投入はシステムインターロックで今すぐ停止させてください。そして、対象ベイのケミカルフィルター循環ファンを即座に最大定格に引き上げ、清浄空気の循環量を増やしてアミン濃度を速やかに低下させるのが先決です。それが完了したら、直ちに防護服を着てリーク源の配管バルブ遮断に向かってください。
設備主任 (Nam): 承知いたしました!直ちに制御端末から露光ラインの自動インターロックをかけ、フィルターファンの最大風量運転を開始します!